CN EN

© 2021 浪声. All Rights Reserved.
  • XRD在透明导电氧化物薄膜(TCO)表征分析中的应用

    应用解决方案 | 日期:2024-04-16 | 阅读:

简介  


透明导电氧化物薄膜(TCO)是指一类具有高导电性、在可见光范围内并具有很高透明度的重要光电材料。在自然界中,透明的物质通常不导电(如玻璃、水晶等),而具有导电性或者导电性良好的物质又往往是不透明的(如金属材料、石墨等)。透明导电氧化 物薄膜打破了传统的观念,将透明度与导电性能相结合,成为功能薄膜材料中具有特色的一类薄膜,常见的TCO薄膜主要分为ITO薄膜、AZO薄膜、FTO薄膜、ATO薄膜等,目前已在光伏电池组件、平面显示器、触控面板、发光二极管(LEDs)、气敏传感器等不同领域获得了广泛的应用。


TCO薄膜表征分析


TCO薄膜的物相结构对其产品质量具有决定性作用。通过物相分析,我们可以深入了解TCO薄膜的晶体结构、晶格参数、晶粒大小以及晶体生长的择优取向等关键特性,这些特性与薄膜的光电性能如透明度、导电能力和长期稳定性紧密相关。

X射线衍射(XRD)技术是分析TCO薄膜的关键工具,它能够提供关于薄膜晶体结构和微观结构的详尽信息。XRD分析得到的晶格参数、晶粒尺寸和择优取向等数据,对于FTO薄膜的光电行为和提高其性能稳定性极为重要。通过这些分析,研究人员能够优化TCO薄膜的制备工艺,从而提升其在各种应用中的性能表现。

  • 鉴定TCO薄膜的晶体结构和物相组成。通过分析XRD图谱中的衍射峰,可以确定FTO薄膜是否为金红石结构以及是否存在其他相,如四方相或立方相。这些信息有助于了解薄膜的晶体质量,进而影响其导电性和透明度。

  • 检测TCO薄膜的晶格参数,包括晶格常数和晶面间距。这些参数的变化可能与薄膜生长过程中的应力状态有关,从而影响薄膜的电子特性和机械稳定性。

  • 评估TCO薄膜的晶粒尺寸和晶体取向。通过Scherrer公式,可以从衍射峰的宽度计算晶粒尺寸,而衍射峰的相对强度则可以提供晶体择优取向的信息。这些数据对于优化薄膜的制备工艺和提高其性能具有重要意义。



应用案例


本实验采用苏州浪声科学仪器有限公司的界FRINGE桌面式X射线衍射仪对某公司提供的TCO薄膜样品的物相结构进行了表征。


(1)制样

XRD在透明导电氧化物薄膜(TCO)表征分析中的应用(图1)

(2)测试参数设置


仪器型号:界FRINGE 靶材:Cu靶
扫描模式:掠入射扫描入射角度:2°
角度范围:10~70°步进角度:0.05°/step 
管压、管流:30kV 20 mA 积分时间:600 ms/step 


(3)测试结果与结论

XRD在透明导电氧化物薄膜(TCO)表征分析中的应用(图2)

样品衍射图谱


经过GIXRD测试,判定该薄膜样品为FTO(SnO2:F)薄膜,且存在(200)择优取向。FTO(SnO2:F)薄膜是氟掺杂的二氧化锡(Fluorine-doped Tin Oxide)的简称,是一种宽禁带半导体材料,其主要成分为SnO2,并掺杂了氟元素F。FTO薄膜具有优异的透明性和导电性,这是因为氟原子替代了部分的氧原子,形成了SnO2−xFx结构,从而调节了材料的禁带宽度和载流子浓度,使得薄膜既透明又导电。FTO薄膜通常呈现四方金红石型结构,具有高载流子浓度和低电阻率的特性。

XRD在透明导电氧化物薄膜(TCO)表征分析中的应用(图3)

SnO2单胞结构


引用文献:

樊琳, 许珂敬, 史晓慧, 贾雨辉, 张衡, 魏春城. 不同氟源对FTO薄膜性能影响及其作用机理. 材料工程, 2018, 46(9): 59-64.